
制樣/消解設備
制樣/消解設備制樣設備主要包括切割機、拋光機、預磨機、磨拋機、鑲嵌機等。拋光機、鑲嵌機、切割機等設備質量可靠,操作安全,可以提高制樣效率和質量,減少試樣廢品率,從而降低成本,提高經濟效益,獲得樣品質量的高度一致性。消解設備是一種常用的樣品前處理設備。主要包括等離子體表面處理儀、微波消解儀、離子濺射儀、電熱消解儀、消化爐、電熱板等其它消解設備。微波消解儀/微波消解系統
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HX-107型標準COD消解器
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INNOTEG微波消解儀i-MEZ
INNOTEG微波消解儀i-Master
上海新儀SH60A全自動消解儀
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上海新儀MDS-15密閉式高通量微波消解/萃取工作站
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微波消解儀MWD-700
密閉式智能微波消解儀 MWD-600型
智能型微波消解儀MWD-520
XJ-100自動消解回流儀COD水質化學需氧量測試儀
WXJ-III-B微波消解裝置 珠江牌COD消解儀
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壓片機
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電熱消解儀
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恒溫消解儀
KEWLAB 智能消解器 ID-S-9
KEWLAB 智能消解器 ID-S-6
KEWLAB 智能消解器 ID-S-56
KEWLAB 觸屏式智能消解儀 ID-S-25-TS
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KEWLAB 智能消解器 ID-S-20
KEWLAB 觸屏式智能消解儀 ID-S-16-TS
KEWLAB 智能消解器 ID-S-12
KEWLAB 雙溫區智能消解儀 ID-D-24
哈希DRB200消解器(15孔/30孔/25孔)
COD自動回流消解裝置
海能SH230/SH230N重金屬消解儀
多功能消解儀DS32-260R
多功能消解儀DS43-260R
真空趕酸系統VB-40R
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電子束刻蝕系統
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TP 系列 高頻感應等離子體發生器
日本JEOL JEBG系列大功率電子槍/電源
英國Nanobean NB5 電子束光刻機
JBX-8100FS 圓形電子束光刻系統
JBX-3050MV 電子束光刻系統
JBX-3200MV電子束光刻系統
JBX-9500FS電子束光刻系統
JBX-6300FS 電子束光刻系統
德國Raith EBPG5150 電子束光刻機
德國Raith Voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機
德國Raith 150 Two 高分辨電子束曝光系統
德國Raith Pioneer Two 電子束光刻機
德國Zeiss SEM 電子束直寫儀
JBX-6300FS 電子束光刻系統
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JBX-3200MV 電子束光刻系統
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鑲嵌機
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Allied真空環氧樹脂注入機 VacuPrep?
Allied電動液壓鑲樣機 TechPress3?
MetaQICK6000 冷鑲嵌機(壓力)
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MetaPRESS102單筒自動熱鑲嵌機
PreQick7001-7002(真空冷鑲嵌機)
PreQick131-132(觸摸式自動鑲嵌機單筒和雙筒)
PreQick130(單筒自動鑲嵌機)
SimpliMet 4000鑲嵌機
Cast N' Vac 1000 真空鑲嵌機
真空冷埋鑲嵌機MV01/MV02
全自動鑲嵌成型機B/B-E3
靜音型全自動鑲嵌成型機L/L-E3
金相自動鑲嵌機L1/L1-E3/L2/L2-E3
金相式樣半自動鑲嵌機MA/MA-E3
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熔樣機
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瑞紳葆FMC-01型硅鉬棒電加熱熔樣機
XRF高頻熔樣爐 GHB-T4
重熔爐(真空+保護氣體,離心澆鑄)GHJ-GC
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瑞紳葆FSC-01型全自動熔樣機
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KATANAX K1 電熔融爐
Katanax X600重型電熔樣機
KATANAX X300 電熔融爐
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電熱板
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iGHP系列智能石墨電熱板
7寸加熱板 GHC MS7
5寸加熱板 GHC MS5
紅外加熱板電沙浴恒溫電熱板
Talboys A-HP75數顯型加熱板(售完為止)
Talboys A-HP70數顯型加熱板(售完為止)
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IXRF等離子親水性處理儀 PIB-10
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等離子體表面處理儀EMS1050(低溫灰化儀)
NDS UV解膠機NDS312
Diener Plasma Femoto Yocoto 牙科等離子表面處理
Diener Tetra30 等離子表面處理儀
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Diener Tetra50-LF 等離子表面處理/清洗機
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Diener電鏡專用等離子清洗機Femto
PCB等離子除膠機 Diener Tetra185
Diener PLASMA 大氣壓等離子清洗機
高級朗繆爾探針(Langmuir Probe)
NextCVD系列多功能寬密度等離子體CVD
電感耦合等離子體系統
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離子濺射儀
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日立離子濺射儀 MC1000
Q150R ES PLUS 離子濺射/碳蒸發一體化鍍膜儀
Q150T ES PLUS 高真空離子濺射/熱蒸發一體化鍍膜儀
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ETD-2000C離子濺射蒸發儀
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108離子濺射噴金儀
ETD-650MS 高真空磁控濺射儀
ETD-3000 小型離子濺射儀
ETD-900C 濺射蒸發儀
ETD-900M 磁控濺射儀
ETD-900 小型離子濺射儀
ETD-800C 熱蒸發鍍膜儀
ETD-800 全自動小型離子濺射儀 博遠微納
英國Quorum K850臨界點干燥儀
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切割機
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進口砂輪切割機 ABRASIMATIC 300
進口低速精密切割機 IsoMet LS
宇通試驗儀器金相切割機SQ100
宇通試驗儀器手動試樣切割機SQ-80
宇通試驗儀器多功能切割機QG-4A
宇通試驗儀器多功能切割機QG-4
宇通試驗儀器金相試樣切割機Q-100B
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宇通試驗儀器全自動試樣切割機LDQ-450
宇通試驗儀器金相切割機LDQ-350A
宇通試驗儀器金相切割機LDQ-350
宇通試驗儀器金相切割機Iqiege60S
宇通試驗儀器金相切割機Iqiege-1
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其它制樣消解設備
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Talboys數顯型磁力攪拌器
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Talboys Prefessional磁力加熱攪拌器17.8cm陶瓷面板
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Talboys Prefessional磁力加熱攪拌器25.4cm陶瓷面板
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離子束刻蝕系統
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美國Trion Technology反應式離子刻蝕(RIE/ICP)系統及沉積(PECVD)系統
牛津深硅刻蝕系統 PlasmaPro 100 Estrelas
Ionfab 300 IBE 牛津離子束刻蝕機
英國牛津OXFORD 等離子體刻蝕機 PlasmaPro 80 ICP
System 100 等離子刻蝕與沉積設備
牛津等離子體刻蝕機 PlasmaPro 80 RIE
英國Oxford 牛津等離子沉積機
Plasma Stripper (Asher) 等離子去膠機
ENTECH RIE SI591 平板電容式反應離子刻蝕機
PECVD Depolab 200 等離子體沉積機
德國 Sentech SI 500 D 等離子沉積機
德國 Sentech SI 500 PPD等離子沉積機
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德國Sentech等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500
Etchlab200 德國Sentech 經濟型反應離子刻蝕機(可升級)
德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統
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激光刻蝕機
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美國OAI光刻機及光功率計
FPS 6100多功能掩膜版光刻機
德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機DWL 2000,DWL 4000
OAI 2012SM 自動化邊緣曝光系統
OAI 2000SM邊緣曝光系統OAI 2000AF曝光系統
OAI 800FSA 光刻機
OAI 5000E 光刻機
OAI 6000 FSA 全自動上側后側光刻機
小型臺式無掩膜光刻系統
OAI 800型光學正面和背面光刻機系統
美OAI光刻機Model 200, 800MBA, 5000, 2000
Nikon NSR-I12 I線步進式光刻機
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Nikon NSR 1755i7B 6英寸分步重復光刻機
Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機
瑞典MYCRONIC光刻機
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消化爐
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上海昕瑞20孔井式可控硅數顯控溫KDN-20C數顯消化爐
KDN-16C數顯消化爐 糧食消化蒸餾器
KDN-8C數顯消化爐 8孔井式可控硅數顯控溫消化爐
KDN-4C數顯消化爐4、8、12、16、20孔消化爐
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石墨恒溫消化爐 JRXZ-S
石英輻射程序消化爐 SKD-08S2
自動蒸餾裝置消化爐HYP-340上海華燁40孔消化爐
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飼料自動消化爐HYP-304四孔智能消化爐
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勻膠機
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美國SCS 旋轉涂覆儀 G3系列
美國 Laurel 勻膠旋涂儀 WS-650系列,H6系列
瑞士Sawatec Leaflet_ispay-300_cn 3D微觀結構的均勻噴涂機
Sawatec Leaflet_SMD-200 顯影機
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瑞士Sawatec勻膠機/熱版機/顯影機/噴膠機
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OSSILA 實驗室勻膠機
LAURELL原裝進口勻膠機WS65023N
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美國Laurell勻膠機650-23N
德國SPS勻膠機SPIN150i
勻膠顯影機POLOS200
美國Laurell濕法刻蝕顯影機EDC-650Mz-8NPP
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原子層沉積系統
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原子層沉積系統
烘烤控制器
牛津OpAL 開放式樣品載入ALD設備
德國Sentech 等離子體增強原子層沉積機
美國 Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機 NLD-4000
Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設備
德國Sentech PE-ALD 等離子體增強--原子層沉積
PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產型原子層沉積機
P-300 Advanced ALD 高 級型原子層沉積機
P-300B Advanced ALD 高 級原子沉積機
芬蘭 PICOSUN R-200標準型ALD
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P-200S Pro ALD 生產型原子層沉積機
P-300F,P-300BV 生產型原子層沉積機
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臺式三維原子層沉積系統ALD
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