儀器網

歡迎您: 請登錄 免費注冊 儀器雙拼網址:yiqi.com
官方微信
儀器網

等離子體表面處理儀

賽默飛化學分析儀器
儀器網/ 產品中心/ 實驗室常用設備/ 制樣/消解設備/ 等離子體表面處理儀
等離子體表面處理儀

等離子體表面處理儀

等離子體表面處理儀是通過利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態,利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等的目的。等離子體表面處理儀的用途:1、醫用材料研究,主要為研究和開發企業或研究所;2、電子領域,應用較為廣泛,如電路板等;3、生物芯片領域;4、高端和精密研究的清洗、除污;5、電化學單位,進行表面處理的單位。
等離子體表面處理儀產品篩選
產品品牌
更多品牌
產品產地
不限 中國大陸 大洋洲歐洲亞洲美洲
廠商性質
不限 生產商授權代理商一般經銷商
銷售地區
江蘇山東上海北京安徽浙江福建廣東廣西海南湖北河南江西天津河北山西寧夏西藏青海陜西四川云南貴州甘肅遼寧吉林黑龍江內蒙古香港臺灣澳門湖南重慶新疆
不限
展開更多選項
等離子體表面處理儀產品列表
排列樣式:
  • >
高級朗繆爾探針(Langmuir Probe)

高級朗繆爾探針(Langmuir Probe)

  • 品牌: 英國Hiden Analytical
  • 型號: ESPion
  • 產地:英國
  • 供應商:北京英格海德分析技術有限公司

    儀器簡介:ESPion高級朗繆爾探針(AdvancedLangmuirProbesforElectricalPlasmaCharacterisation)可快速、可靠、精確地進行等離子體診斷,是最先進可靠的朗繆爾探針(LangmuirProbe)。 技術參數:應用: 蝕刻/沉積/ 清潔等離子體 脈沖等離子體操作 離子密度 (Ni & Gi) 電子溫度(Te) 電子能量分布(EEDF) 電子密度(Ne) 等離子體電位 Debye 長度,懸浮電位 主要特點: 獲得數據速度:每秒15次掃描,通過D-O-E-界面可以自動、半自動或手動分析 Hiden在被動射頻補償方面處于領先地位,在所有的商業化探針中 ESPion 具 有最高的屏蔽阻抗(4.25Mohm at 13.56 MHz cf. 100kohm) 高溫等離子體操作時的氣體制冷多感應器鏈,使用者可調諧至其他頻率 參考探針補償用于抵制較低頻率影響,例如等離子體電位漂移(例如,反應室 內腔陽極氧化所致) 或噪音(例如,供電源引起) ESPion 是所有商業化探針中最快速的脈沖等離子體探針,ESPsoft 包括所有 必需的標準脈沖選通電路 300、600、915mm 自動線性驅動器可選,互鎖隔離閥, 90°探針,組合式 線性-旋轉驅動器可選 自清洗循環,防止探針尖端污染 經由RS232、RS485、Ethernet LAN 和 ESPsoft軟件控制

反應式離子蝕刻機

反應式離子蝕刻機

  • 品牌: 香港Teltec
  • 型號: RIE
  • 產地:
  • 供應商:香港電子器材有限公司

    反應式離子蝕刻機 性能特點 Capability Features: 用于失效分析的剝層分析解決方案群,世界頂尖反應式離子蝕刻機,物理沉移系統,原子層化學氣相沉積系統. RIE/PE and RIE-ICP FA system 這些靈活的失效分析工具可以實現從鈍化層的去除到各項異性的氧化物的去除,從小管芯或已封裝的器件到300mm直徑的晶片整個范圍的工藝. 去除氮化物鈍化層后刻蝕金屬間介質后四層金屬暴露 金屬間介質后的失效分析 優點: - 工藝靈活,既可采用RIE/PE,也可采用ICP - 先進的管芯工藝:采用等離子體加速器的刻蝕速率比標準的RIE工藝快20倍 產品范圍: - 可以處理300mm晶片的RIE/PE雙模式設備 - 快速低損傷的模具刻蝕裝置 - 處理200mm晶片的雙模式設備 - 填充用的正硅酸乙酯(TEOS)工藝 應用: - 各向同性的聚酰亞胺的去除(RIE或ICP模式) - 各向同性的氮化物(鈍化層)的去除(PE或ICP模式) - 各向異性的氧化物(金屬間介質/層間介質)的去除(RIE或ICP模式) - 各向異性的低K值氧化物的去除(RIE或ICP模式) - 金屬支架的去除(RIE或ICP模式) - 多晶硅的去除(RIE模式) - 鋁或銅的去除(ICP模式)

NextCVD系列多功能寬密度等離子體CVD

NextCVD系列多功能寬密度等離子體CVD

  • 品牌:
  • 型號: NextCVD(ICP-LP-PE-CVD)
  • 產地:
  • 供應商:上海巨納科技有限公司

    國內的電感耦合等離子體都是基于中頻13.56MHz的電源發生器,等離子體密度較低,而且是螺旋管式,主要用于等離子體刻蝕,不適宜用于沉積高質量薄膜。巨納集團NextCVD系列多功能寬密度等離子體CVD(ICP-LP-PE-CVD)結合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優點,可在寬密度工藝范圍(109-1013 cm-3)實現穩定的等離子體輔助CVD,具有優良的材料處理性能和廣泛的應用范圍,是目前全球功能最強大的等離子體CVD系統。NextCVD 的原創性高密度低頻平板式電感耦合等離子體系統在國內獨一無二。頻率可調節,從低頻0.5- 4MHz范圍內調節;電感天線是平板式,可根據客戶要求改變天線的形狀、大小,從而實現兩種不同的放電模式:電感放電和電容放電,兩種模式下都能實現穩定放電,兩種模式的等離子體特性截然不同,可以實現不同的功能。產品特點基片臺可電動旋轉、可加熱、可升降配裝手動高真空插板閥、手動角閥、電腦復合真空計由于采用了超高真空密封技術,極限真空度高,沉積室可進入10-5Pa量級,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質量自動監控和保護功能,包括缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統檢測與保護等配備可開關觀察窗,方便觀察及取樣品設備真空系統采用分子泵+機械泵真空機組采用磁力耦合傳動密封技術密封運動部件真空規用金屬規,刀口金屬密封性能技術參數設備極限真空度:5.0×10-5Pa(等離子體沉積腔室)。5.0×10-1Pa進樣室高密度等離子體:電子密度最高能達到1013 cm-3氣體先驅物離化率:1-10%電感耦合離子體電源發生器頻率從0.5-4 MHz可調,功率可從0-5000 W調節電感天線有橢圓和圓形兩種,相應等離子源石英窗口形狀也有橢圓和圓形兩種,相應等離子體放電模式也有電感和電容模式兩種,可根據用途選擇。等離子體源石英窗口大小可根據要求進行調節供電:~380V三相供電系統(容量7KW),冷卻水循環量1M3/H,工作環境溫度10℃~35℃,冷卻水溫度18℃~25℃設備占用面積12M2(設備安裝面積4M×3M)進樣室上方窗口(玻璃橡膠圈密封):¢20cm沉積室抽氣口在底部,樣品架的兩邊抽氣,有利于薄膜的均勻沉積設備總體漏放率:關機12小時后,真空度≤10Pa從大氣到抽到≤7×10-4Pa,小于45min(新設備充干燥氮氣),提高了工作效率樣品臺可旋轉,速度:0~25轉/分 可控可調。(樣品臺尺寸¢200mm)基片尺寸¢6英寸(根據用戶需要可變)樣品臺加熱器溫度:室溫~500±1℃。溫度可控可調基片最大升降距離0~100mm可調配備2支¢3英寸磁控靶,其中一支可鍍鐵磁材料,磁控靶可伸縮磁控濺射靶電源:射頻源 500W、13.56MHz;直流濺射電源,500W缺水欠壓檢測與保護、相序檢測與保護、溫度檢測與保護、真空系統檢測與保護應用領域:光伏行業(氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構與刻蝕)新型二維材料(石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備)半導體工藝(刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等)納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構造石墨烯氫等離子體可控改性石墨烯氬等離子體可控改性氬等離子體可控改性:引入空位缺陷氫等離子體可控改性:引入SP3缺陷

Diener PLASMA 大氣壓等離子清洗機

Diener PLASMA 大氣壓等離子清洗機

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: PLASMABEAM
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大氣壓等離子清洗機/等離子表面處理 PlasmBeam PlasmBeam PC PlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果: PlasmaBeam清洗過的區域,噴水后沒有殘留水滴。底材:鋁底材:塑料技術參數:型號PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO發生器頻率與功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反應氣休/冷卻氣體無油空壓機無油空壓機無油空壓機氣體壓力5-8bar5-8bar5-8bar氣體流量2m3/h2m3/h4m3/h離子束手柄單只直徑32mm,長度270mm,重量0.6kg電纜長度3m,Φ19mm(可訂制)處理的最大寬度為12mm兩只其它參數同前操作模式手動控制/遠程控制MS-Windows控制無有無電源AC230V/6A/50~60Hz尺寸(mm)W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020

NDS UV解膠機NDS312

NDS UV解膠機NDS312

  • 品牌:
  • 型號: NDS312
  • 產地:日本
  • 供應商:北京歐屹科技有限公司

    NDS UV解膠機NDS312 UV解膠機NDS UV解膠機簡介:UV解膠機適合6/8/12寸芯片整片照射使用,主體部分為不銹鋼、鋁合金制作,質量可靠,性能穩定;貼膜精度高且穩定;操作簡單,易懂易會。NDS UV解膠機特點:1)小巧的桌面式設計2)采用液晶觸摸屏一鍵式全自動完成解膠過程3)LED冷光源代替了傳統的高壓汞燈,結果試驗認證,4)使用壽命比普通汞燈壽命長10倍以上5)LED冷光源與汞燈組成的光源相比,更能實現穩定性,均勻性的照射6)LED冷光源安全性高,熱量小,功耗低7)設備開門關門時,LED冷光源處于關閉狀態,有效防止紫外光外泄對人體傷害8)U V照射機具有故障提示報警燈功能NDS UV解膠機參數:序號內 容參 數1額定電壓AC 220V2頻率50/60HZ3額定功率800W4UV燈波長365nm5外形尺寸(長*寬*高)700mm×660mm×380mm6機器重量35kg7膠膜類型UV膜8膠膜厚度0.15~0.17mm9照射功能自動式10保護接地電阻小于4ΩNDS UV解膠機尺寸:外形尺寸(長*寬*高)700mm×660mm×380mm

IXRF等離子親水性處理儀 PIB-10

IXRF等離子親水性處理儀 PIB-10

  • 品牌: 美國IXRF
  • 型號: PIB-10
  • 產地:美國
  • 供應商:天美(中國)科學儀器有限公司

    產品簡介IXRF等離子親水性處理儀 PIB-10PIB-10等離子親水性處理儀采用稀薄空氣中交流放電產生等離子體,用其中正離子處理樣品表面,去除吸附在樣品表面的疏水性物質,并同時在表面形成羥基親水層,使其轉變為親水性表面。技術參數:1. 儀器尺寸:寬200mm×高340mm深340mm,內置旋轉泵2. 樣品倉尺寸:內徑110mm,高度60mm,硬質玻璃制造3. 電極尺寸:直徑50mm,靜電屏蔽電極4. 樣品臺尺寸:直徑50mm5. 電極-樣品間距:35mm主要特點:1. 軟/硬兩種處理模式,同時適用于軟樣品(碳膜類樣品,超薄切片樣品撈片更容易,貼合度更好)和硬樣品(鉆石刀等,減小刀尖的水接觸角,避免切片起皺、連續切片更加整齊不亂漂)2. 以交流放電進行離子清洗3. 浮動式樣品臺與放電電極絕緣,保護樣品不受傷害4. 可以用于塑料凳絕緣物質的離子刻蝕,交流離子轟擊不會造成刻蝕的局部不均勻

PCB離子污染測試儀

PCB離子污染測試儀

  • 品牌:
  • 型號: LZ12
  • 產地:
  • 供應商:廣東正業科技股份有限公司

    PCB離子污染測試儀PCB離子污染測試儀用途:本產品用于印制線路板行業相關檢測儀器,可對清洗,涂敷等工藝前后光板進行離子污染測試;拓展應用到對元器件生產工藝中某一階段的制品進行測試或對裝配清洗前后的電路板做離子污染測試;有利于進一步提高電子產品壽命, 可靠性,控制環境污染。PCB離子污染測試儀特點:1、操作簡單:由電腦控制完成預熱、測試及再生測試;2、USB、RS232數據線自由切換,滿足不同端口電腦需求;3、2種操作語言可供選擇:中英文簡體;4、實時顯示電導率和離子曲線,測試過程更直觀;5、先進的操用系統安全性:多級操作用戶密碼保護;6、具有加熱及溫控功能,工作溫度恒定在40℃±0.3℃;7、采用陰陽離子混合交換樹脂,過濾效果更好;8、系統自動保存測試結果,測試報告為Excel格式;9、測試時間可自行設定,測試過程中也可以手動停止保存結果。效率提升對比圖:效率提升約27%(30L為例)20mlNACL動態測:14min20mlNACL靜態測6min+13min再生=19min測試方式動態離子測試靜態離子測試儀器型號ASIDA LZ21ASIDA LZ12物件尺寸66.0*66.0cmPCB實際面積8712.0 Sq.cmPCB有效面積百分比100%測試耗時14min6min等價總質量12530 u g Eq NaCL12197u g Eq NaCLPCB離子污染測試儀技術參數:項目 規格型號 LZ12LZ21測試方法 靜態測試靜態/動態測試測試精度 ±5%電導率分析率0.001 us /c電極分辨率范圍0.0001us/c測量板面積標準:1200-4200c 加大:1200-8712c萃取液比重 0.85-0.855基準22-66MΩ66-100MΩ水箱體積標準:352*70*600mm約17L加大:680*65*680mm約30L其他規格可另行定制外形尺寸 標準:1050*600*920mm加大:1401*600*1000mm功率 1300W1700W電源要求 AC220V 50HZ重量 標準:約115KG 加大:約150Kg工作環境溫度 22±3℃工作萃取液溫度 40±2℃

等離子表面處理儀

等離子表面處理儀

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型號: GSL1100X-PJF
  • 產地:
  • 供應商:合肥科晶材料技術有限公司

    產品型號:GSL1100X-PJF 等離子表面處理儀 產品簡介:GSL1100X-PJF 等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統,主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下,迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質量的外延薄膜或者光學涂層,預先進行表面處理可以得到顯著的效果。 主要特點: 操作簡單、安全,高速處理物件表面; 不需要真空、不需要腔室; 手提式、可以現場使用、成本低; 重量輕、結構緊湊。 技術參數: 輸入電源:110/220,50/60Hz,小于1000W; 輸出頻率:20-23KHz; 離子束頭:包括2個離子束頭,圓頭10-12mm,矩形頭15-18mm; 輸入氣體壓力和工作氣氛:最小0.275兆帕,工作氣氛可以是空氣、氮氣、氬氣、混合氣體(不要使用易燃易爆氣體); 等離子工作壓力:0.048兆帕-0.068兆帕; 工作環境:溫度< 42°C;濕度≤ 40%RH;沒有易燃氣體; 外形尺寸:380 (寬) ×210 (高) ×500 (長) mm; 凈重:10公斤; 產品證書:CE認證 具體信息請點擊查看:www.kjmti.com

電感耦合等離子體系統

電感耦合等離子體系統

  • 品牌:
  • 型號: MPDEX‐21/21-2
  • 產地:
  • 供應商:上海巨納科技有限公司

    電感耦合等離子體系統可以產生高密度(1012~1013 cm-3)的電感耦合等離子體,可以施加頻率從0.5~13.56 MHz(低頻到中頻)的射頻電源,外加功率變化范圍是0~5000W。主要用于等離子體輔助化學氣相沉積(CVD)、薄膜制備與處理、表面改性、刻蝕與晶片清洗等。電感耦合等離子體系統MPDEX21/21-2主要由以下幾個部分組成(1)平板式電感耦合等離子體源結合電源發生器和射頻匹配網絡可以產生高密度(1012~1013cm-3)的電感耦合等離子體,可以施加頻率從0.4~13.56 MHz(低頻到中頻)的射頻電源,外加功率變化范圍是0~5000W。主要用于等離子體輔助化學氣相沉積(CVD)、薄膜制備與處理、表面改性、刻蝕與晶片清洗等。優勢特點可有效控制離子轟擊效應,以利于減少離子轟擊。高度氣體先驅物的離化率,可以達到1~10%。廣泛的工藝化學范圍持有成本降低增強終端用戶工藝開發和輸出量整合式電源、匹配和等離子腔室即插即用的安裝廣泛的匹配范圍耐用的石英玻璃或三氧化二鋁介電質材料最高的等離子功率密度(2)射頻匹配網絡(RF Matching Network)射頻網絡包括匹配(Matching)和調諧(Tuning),其中匹配網絡的固定電容可提供的選擇從5到100納法(nF)等等,調諧網絡的電容可調節范圍是10~2010,1010~3100,2010~4010,3010~5010,4010~6010皮法(PF)等等。主要為磁控濺射、電容耦合等離子體(CCP)和電感耦合等離子體(ICP)提供匹配網絡,通過匹配網絡提供可調節的阻抗使磁控濺射、CCP和ICP能在不同的工藝條件下正常運行。優勢特點加強了工藝控制最大限度地減小反射功率加速反應時間有助于提高工具吞吐量和產量簡單易控制的匹配平臺整合式儀器簡化的設計嚴格的測試(3)Advanced Energy PDX 8000低頻電源,340-440 KHz, 8000W主要為容性或者感性等離子體提供射頻電源。PDX系列大功率(5000和8000W)低頻電源為各種廣泛的工藝應用提供一種高效、緊湊、易于整合的電源。這些高度可靠地電源提高了工藝靈活性,提供廣泛的運行頻率范圍以優化工藝控制,確保較高的工藝重復性,并提高了吞吐量。優點功能恒功率、電壓或電流輸出最高的靈活性與模塊性強大的電弧控制自動制程保護裝置極寬的祖抗匹配范圍高功率密度5 kW和8kW選項兩種不同的弧處理電路高效能、緊湊型水冷式設計多種可選配件符合CE標準(4)Advanced Energy Dressler Cesar 2 MHz或13.56 MHz射頻發生器,600 W, 1000 W或2000 W主要為磁控濺射,CCP和ICP提供射頻電源。強大而多功能的Cesar平臺可提供非常穩定的射頻功率輸送性能,以及一個多樣化的模式選擇,每種模式都具有一套獨特的功能(2、4、13.56、27.12和40.68 MHz;0.3至5 kW;擁有多種用戶界面和輸入選擇),從而使您能夠選擇一套特別適合您應用的組件而無需定制發生器所需的漫長交付期。高質量的組件和較少的零件數量使可靠性和產品生命周期均實現最優化,從而使您的投資和制程生產力得到最大化的利用。一個全面而高度靈敏的操作菜單(可在該組件的多功能前面板上找到,并顯示在一個大的液晶顯示屏上)帶來了無與倫比的便利性提高了操作人員的效率,并使培訓成本最小化。優點功能更長的制程正常運行時間更高的操作簡易性和靈活性無需定制組件提前期的定制化性能長期的使用簡易性,節省成本精的流線型設計標準的平臺包裝高效率低發熱量200和400 VAC的輸入選擇兩個模擬用戶端口選擇RS-232、以太網、和Profibus通訊多功能前面板便利、全面的操作菜單CEX(相位同步)操作模式遵循SEMI(符合或超過標準)

PCB等離子除膠機 Diener Tetra185

PCB等離子除膠機 Diener Tetra185

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Tetra185
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener Tetra185 Plasma PCB DesmearingPCB等離子除膠機 Diener Tetra185接受不同規格艙體及工藝定制循環時間為15分鐘和90分鐘之間同時可以處理7塊PCB板,處理最大尺寸為510×610mm 應用領域:- 除污雜材料- 聚酰亞胺箔加壓前的蝕刻與活化,以便它能夠提高粘接強度- 表面清潔- 金屬表面粘接和焊接前的活化 去除膠渣的材料類型:- FR4standard (for example Panasonic MC-100MS/EX)-Modified FR4 systems (for example Panasonic: R-1766 T,R-1566W, R-1755-C)-BT-systems (for example Isola IS620)-CE-systems (Cyanante-Ester, for example Nelco)-Polyamide materials (for example Isola P97, FNC… and AP…)- PTFEbased on laminates (for example Rogers RO3000')- Polymer based on laminates (for exampleRogers RO4000')技術參數控制方式FULL PC-Control工藝氣體4路 MFCs壓力控制皮拉尼壓力計腔體材質不銹鋼, 腔體尺寸W 400 mm x D 700 mm x H 665 mm 約185L托盤垂直,7層PCB專用電極垂直,7層PCB專用發生器80kHz,0~3000W真空泵螺桿泵,排氣速度500m3/h,外接冷卻水防腐有,可對應CF4,SF6H2安全閥有活性碳過濾有外尺寸:W600 mm x D 1000 mm x H 2100 mm電源三相400 V / 16 A立體托盤艙門單個托盤

Diener電鏡專用等離子清洗機Femto

Diener電鏡專用等離子清洗機Femto

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Femto電鏡專用型
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener電鏡專用等離子清洗機用途: 主要用于除去透射電鏡樣品及樣品桿上的污染,防止碳沉積以降低圖像分辨率及對樣品微區分析造成誤判。還可以利用該儀器清洗各類光闌等電子顯微鏡配件。特別適用于場發射掃描電鏡和場發射透射電鏡。用這種低能高頻等離子體清洗樣品表面,不會改變樣品元素成份和表面結構特征。主要技術參數:1. 可對多孔碳膜進行高效且無破壞的清洗,提高樣品在低電壓下的成像能力,在化學微量分析時提高其精度2. 無油真空系統:泵體部分由多級隔膜泵和超凈音分子泵組成,在保證真空度的同時,可在兩分鐘之內達到抽真空和放氣過程,整個清洗過程在4分鐘內可以完成3. 可清洗標準透射電鏡樣品桿4. 可清洗多孔碳膜5. 清洗時間:普通污染樣品小于2分鐘,重度污染樣品小于10分鐘 6. 重現性:可以自動記錄下同類產品清洗的條件,下次清同類產品時可以樣條件進行技術規格:控制方式手動控制發生器40KHz,0~100W腔體材質高硼硅玻璃腔體尺寸Dia.90*L280mm氣路單路???清清時間旋鈕式計時器0~99hour壓力控制范圍0~2mbar外型尺寸W345*D420*H211mm???電源電壓單相AC230V,16A真空泵排氣速度4m3/hour,極限真空度0.5Pa選配????發生器2.45GHz和13.56MHz腔體材質石英玻璃氣路雙路計時器數字式計時器減壓閥配專用氣路接口鋼瓶10L

Diener Tetra100 等離子表面清洗/蝕刻機

Diener Tetra100 等離子表面清洗/蝕刻機

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Tetra100
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener等離子表面處理設備 德國原裝進口德國Diener是專門生產經濟、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設備的市場和技術領先者。Diener采用先進的集成化技術開發生產射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等離子應用最先進技術的2.45GHz的等離子清洗機。 目前設備廣泛應用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學、半導體科研、半導體封裝、芯片制造、MEMS器件等領域。其設備生產零件均選用其零件行業的最優質產品,以保證性能技術穩定。德國diener等離子表面處理設備特點:等離子清洗機清洗效果好,效率高,應用范圍廣。對清洗樣品,沒有任何材質、外觀尺寸等要求等離子清洗過程中,溫升很小,基本可達到常溫處理。射頻功率無極連續可調。高效的特制電極,是產生均勻等離子體的保證。特制電極和托盤結構,可充分利用真空艙體內部空間,使處理效率最大化,同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。特有的過載、短路和過熱保護電路,可保證射頻電源的穩定和安全。設備整體模塊化設計,安裝與維護極為簡單。德國diener等離子表面處理設備的應用范圍: 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。 清洗半導體元件、印刷線路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉積凝膠的基片。 高分子材料表面修飾。 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Plasma 低壓/真空等離子表面處理/清洗/蝕刻機Tetra100 主要技術參數:基本配置:根據具體組件/選裝件,外殼規格會有所不同腔室容積:根據具體版本,分為 80 - 100 升供電電源: 230 V 或者 400 V / 3 相位氣源質量流量控制器 (MFCs)真空腔室圓形不銹鋼件,配有鉸鏈的門(約 ? 400 mm、長 625 mm)矩形不銹鋼件,配有鉸鏈的門(約寬 400 mm x 高 400 mm x 深 625 mm)裝載件產品支架(選項:水冷型)、石英玻璃舟皿、粉末轉鼓、散裝件轉鼓、鋁板、不銹鋼板、硼硅玻璃、石英玻璃電極單層或多層具有氣體噴淋的 RIE 電極控制系統PCCE 控制系統 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系統 (Microsoft Windows POS Ready 2009)壓力測量PiraniBaratron(適用于腐蝕性氣體版本)計時器數字型發生器頻率: 40 kHz: 功率 0 - 1000 W;0 - 1500 W;0 - 2500 W13.56 MHz: 功率 0 - 300 W;0 - 600 W;0 - 1000 W2.45 GHz: 功率 0 - 1200 W所有發生器均為 0 - 100% 無級可調型真空泵規格和制造商均各有不同(按照活性炭過濾器的需要)其他選項備件套件、壓力計、腐蝕性氣體設計結構、氣瓶、減壓器、加熱板、溫度顯示器、加熱型腔室、Faraday Box、等離子體聚合配件、測試墨水、 氧氣發生器、慢速通風裝置、慢速抽吸裝置、TEM樣品架法蘭、維護/服務、當地語言的文件、現場安裝,包括培訓。可應要求提供的其他選項。上海爾迪儀器科技有限公司 中國總代理

Diener Tetra50-LF 等離子表面處理/清洗機

Diener Tetra50-LF 等離子表面處理/清洗機

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Tetra50
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener等離子表面處理設備 德國原裝進口德國Diener是專門生產經濟、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設備的市場和技術領先者。Diener采用先進的集成化技術開發生產射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等離子應用最先進技術的2.45GHz的等離子清洗機。目前設備廣泛應用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學、半導體科研、半導體封裝、芯片制造、MEMS器件等領域。其設備生產零件均選用其零件行業的最優質產品,以保證性能技術穩定。德國diener等離子表面處理設備特點:等離子清洗機清洗效果好,效率高,應用范圍廣。對清洗樣品,沒有任何材質、外觀尺寸等要求等離子清洗過程中,溫升很小,基本可達到常溫處理。射頻功率無極連續可調。高效的特制電極,是產生均勻等離子體的保證。特制電極和托盤結構,可充分利用真空艙體內部空間,使處理效率最大化,同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。特有的過載、短路和過熱保護電路,可保證射頻電源的穩定和安全。設備整體模塊化設計,安裝與維護極為簡單。德國diener等離子表面處理設備的應用范圍: 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。 清洗半導體元件、印刷線路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉積凝膠的基片。 高分子材料表面修飾。 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Tetra50-LF Plasma 主要技術參數:Tetra-50-LF 標準配置*操作界面簡單方便* 反應艙 305mm(寬)×300mm(高)×625 mm(深) * 不銹鋼反應艙體,鋁合金艙門* 40KHz 射頻發生器* 高效針孔電極* 數字計時器可自動設定操作程序* 皮拉尼真空泵可設定重復操作,真空泵排氣凈化管路* 雙氣體配置, 銅氣體管、氣體流量計、 針閥* 可調節氣體流量計* 自動計時器控制等離子處理過程* 功率:0-1000W連續可調* 自動阻抗匹配* 電極4層電極,樣品托盤4層放置 (可選裝最多至6層)不銹鋼托盤* 安全保護功能:防靜電真空開關,安全傳感艙門* 電磁閥保護,回流油霧不能進入反應艙* 操作:手動或全自動 * 參數控制: 處理時間、功率、氣體流量、壓力* 外形 600mm(寬)×1800mm(高)×800mm(深) * 電壓:380-400V/16A* 真空泵 :萊寶(Leybold)Type D16B(16m3/h) 選裝件:旋轉艙體、計算機控制系統上海爾迪儀器科技有限公司 中國總代理

Diener PlasmaBeamMini 等離子表面處理

Diener PlasmaBeamMini 等離子表面處理

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: PlasmaBeam Mini
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Technische Daten PlasmaBeamMini1.外尺寸: B 350 mm, H 166 mm, T 300 mm, 重量. 10 kg2. 噴頭直徑.φ25 mm, L 150 mm, 重量. 0.5 kg,線纜 1.5 m3. 發生器:2,45 GHz/8 W4.反應氣體:單路Ar 5. 電源:單相100~240V,1.5A 上海爾迪儀器科技有限公司 中國獨家代理

Diener Tetra30 等離子表面處理儀

Diener Tetra30 等離子表面處理儀

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Diener Tetra30
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener等離子表面處理設備 德國原裝進口德國Diener是專門生產經濟、可靠的等離子清洗和等離子刻蝕設備的公司, 是世界上材料處理低溫等離子體設備的市場和技術領先者。Diener采用先進的集成化技術開發生產射頻頻率為40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等離子應用最先進技術的2.45GHz的等離子清洗機。目前設備廣泛應用于:等離子清洗、刻蝕、灰化、涂鍍和表面處理。產品主要分布在真空電子、LED、太陽能光伏、集成電路、生命科學、半導體科研、半導體封裝、芯片制造、MEMS器件等領域。其設備生產零件均選用其零件行業的最優質產品,以保證性能技術穩定。德國diener等離子表面處理設備特點:等離子清洗機清洗效果好,效率高,應用范圍廣。對清洗樣品,沒有任何材質、外觀尺寸等要求等離子清洗過程中,溫升很小,基本可達到常溫處理。射頻功率無極連續可調。高效的特制電極,是產生均勻等離子體的保證。特制電極和托盤結構,可充分利用真空艙體內部空間,使處理效率最大化,同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。特有的過載、短路和過熱保護電路,可保證射頻電源的穩定和安全。設備整體模塊化設計,安裝與維護極為簡單。德國diener等離子表面處理設備的應用范圍: 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。 清洗半導體元件、印刷線路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉積凝膠的基片。 高分子材料表面修飾。 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Tetra30 Plasma 主要技術參數:1.*便捷的PC觸摸屏控制,操作系統為Windows CE5.0(ARM)2.*根據工藝要求不同,可設定功率、壓強、氣體流量與時間等參數3.雙路工作氣體,氣體流量通過數字式流量計(MFC)控制4.*反應艙為不銹鋼,寬305mm ×深625 mm×高300 mm,容積約為50L5.高周波電流頻率13.56MHz,功率0~300W6.反射波自動調節,無須手工調節7.電極材質為鋁/不銹鋼8.運行模式為手動/自動9.*可存儲多套工藝程序,圖表實時顯示工藝過程10.真空泵的排氣能力為16m3/Hour,配有強制進氣閥11.*配有壓力傳感器,可根據工藝要求設定壓力值12.電源電壓:400V /16A

Diener Plasma Femoto Yocoto 牙科等離子表面處理

Diener Plasma Femoto Yocoto 牙科等離子表面處理

  • 品牌: 德國Diener
  • 型號: Diener
  • 產地:德國
  • 供應商:上海爾迪儀器科技有限公司

    Diener electronic 公司世界首創Diener electronic 公司推出了第一臺適合牙科種植專家和牙科技師使用的低壓等離子系統。牙科技術現在還沒有粘合促進劑或者底漆僅在原子水平上進行清洗、活化、蝕刻和涂層。用 FEMTO-PCCE-系統直接在實驗室中進行等離子體預處理是極為有效和環保的。等離子體技術被認為是極為環保的,而且成本較低,適合用來替代化學粘合促進劑,其某些工藝對于牙科技術部件的預處理而言是至關重要的。表面蝕刻作為所有粘合劑和復合面的最佳保留基層,具有極好的潤濕性,而且科學記錄表明緊密清洗效果提供了決定性的優勢。Femto PCCE-牙科技術 正面Femto PCCE-牙科技術 背面Femto牙科技術沒有粘合促進劑或者底漆,通過等離子體預處理,極為有效和環保多年來,對很多行業領域而言,缺少等離子體技術是不可想象的。 隨著新的 Diener 等離子系統的研發,特別是對于牙科技術和口腔醫學方面,等離子體技術現在也已經擁有了自己的用戶群。用等離子體可以對金屬(EM、NEM 和鈦)和諸如 PEEK、PEKK、Acetal (POM)、PE、PA 或者 PMMA 之類的高性能塑料進行清洗、活化、蝕刻和涂層。YoctoYocto種植術方面等離子體清洗的講座牙根植入物的等離子活化和上層結構的精密清洗通過提高表面能量增加潤濕性改善周邊軟組織的附著性,并導致黏膜密封更為快速具有去污作用,并能夠有助于形成無刺激和無炎癥性介孔結構能夠很好的固定所有部件,并借此減少細菌污染率減少螺栓連接的失效風險

等離子體表面處理儀EMS1050(低溫灰化儀)

等離子體表面處理儀EMS1050(低溫灰化儀)

  • 品牌: 美國EMS
  • 型號: EMS1050
  • 產地:美國
  • 供應商:海德創業(北京)生物科技有限公司

    EMS1050 低溫灰化儀應用領域:l  生物芯片領域l  醫用材料、光學材料研究l  電子半導體領域l  高分子材料研究l  電化學、高端零部件處理l  有機材料的灰化、刻蝕 儀器性能:l  自動調頻高頻發生器l  內置旋轉真空泵l  此系統通常使用氧及氬的混合氣體,氧去除有機物質(碳氫化合物),氬對樣品表面進行刻蝕l  低溫等離子灰化、刻蝕、清洗 (0-150 watts RF) l  真空監測. l  雙重氣流針閥控制 l  精確時間定時 l  微處理器程序設置l  LCD狀態數字顯示l  腔室為圓柱形,樣品裝載為抽屜式抽拉系統,樣本操作方便 l  聚碳酸脂安全防護   技術參數:電鏡有機樣本的刻蝕尺寸450mm(W)x350mm(D)x300mm(H)工作腔室派熱克斯玻璃 150mm(L)x100mm(Dia.) (硼硅酸鹽玻璃為標準配置)重量25Kg等離子體輸出最大150w,13.56 MHz 。等離子體輸出最大150w,13.56 MHz 。真空度>ATM to 1 x 10-5mbar;通常 0.5 mbar to 1.0 mbar.時間控制最長可設置99小時59分鐘雙重氣流控制雙重針閥氣流控制,可選1種或2種氣體(校準   5-100cm3/min air at A.T.P)電源230 V, 50Hz (3 amp Max)

等離子表面處理機

等離子表面處理機

  • 品牌: 深圳誠峰
  • 型號: CRF-APO-500W
  • 產地:深圳
  • 供應商:深圳市誠峰智造有限公司

    配置專業運動控制平臺,PLC+觸摸屏控制方式,采用精準運動模組,操作簡便; 配置專業集塵系統,保證產品品質和設備的整潔、干凈; 可選配噴頭數量,滿足客戶多元化需求;

對比欄隱藏對比欄已滿,您可以刪除不需要的欄內商品再繼續添加!
您還可以繼續添加
您還可以繼續添加
您還可以繼續添加
您還可以繼續添加
您還可以繼續添加